物理气相沉积具有金属汽化的特点,与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数 PVD 方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。
工艺温度
典型的 PVD 涂层加工温度在 250 ℃— 450 ℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量, PVD 涂层温度可低于 70 ℃或高于 600 ℃进行涂层。
涂层适用的典型零件
PVD 适合对绝大多数刀具模具和部件进行沉积涂层,应用领域包括刀具和成型模具,耐磨部件,医疗装置和装饰产品。
典型涂层类型
涂层类型有 TiN, ALTIN,TiALN,CrN,CrCN,TiCN 和 ZrN, 复合涂层包括 TiALYN 或 W — C : H/DLC
涂层厚度一般 2~5um ,但在有些情况下,涂层薄至 0.5um , 厚至 15um装载容量。
涂层种类和厚度决定工艺时间,一般工艺时间为 3~6 小时。
加工过程优点
PVD 加工过程
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